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今天11月12日周四2 条
11月11日周三
  1. Semiconductor Engineering49

    混合键合间距缩小至5μm以下,检测与量测面临极限挑战

    混合键合间距正从当前量产的4至9μm向5μm以下收缩,50nm颗粒和表面污染即可导致键合失效。CMP需将铜凹陷控制在几纳米并保持0.5nm RMS粗糙度,预键合检测须区分致命缺陷与无害形貌变化。键合后的埋藏缺陷检测仍是最大难题,红外、X射线和超声成像在分辨率、灵敏度与吞吐上各有局限。

  2. Semiconductor Engineering42

    AI 迭代提速,芯片测试难以跟上节奏

    AI 模型与工作负载的迭代速度已超过芯片设计、制造和测试周期,迫使芯片厂商重新思考测试策略。多 die 封装和更多测试插入点产生海量数据,且分散在不同公司和工厂之间难以共享;硅光目前已有 5 个测试插入点,面板级封装还将带来全新设备与工艺。客户还要求延长昂贵的 AI 硬件寿命,使老化与可靠性监控变得更复杂。

  3. Semiconductor Engineering38

    缩短光刻学习周期以加速 FOPLP 量产爬坡

    针对扇出面板级封装(FOPLP)爬坡中的光刻难题,将离线量测数据与良率预测算法结合,可在投入实际试产前评估工艺窗口。在 HVM 工艺的生产基板上评估时,良率预测与实测差异最初为 1.2% 至 2.7%,标准化检查流程后降至 0.2% 至 0.8%。该方法用仿真筛选参数组合、再用 qualification 基板验证,减少试错迭代并缩短开发周期。

  4. DIGITIMES60

    蓝思科技计划2026年底前建成首条TGV玻璃基板中试线,寻求与韩国芯片厂合作

    蓝思科技计划在2026年底前建成并运行首条TGV玻璃基板中试线,从手机玻璃业务延伸至先进芯片封装。公司中国区总裁江南在10月28日深圳C-TOUCH & DISPLAY SHENZHEN 2026展会接受ZDNet Korea采访时表示,公司正寻求与韩国半导体及存储企业建立合作。

11月9日周一
  1. DIGITIMES72

    Nittobo 追加 200 亿日元扩产 T-Glass,2029 财年产能提至 2025 财年 3.6 倍

    日本 Nittobo(Nitto Boseki)计划追加投资 200 亿日元(约 1.27 亿美元),扩产用于先进半导体封装的低热膨胀系数(low-CTE)玻璃纤维布 T-Glass。扩产完成后,到 2029 财年产能将提升至 2025 财年的 3.6 倍,反映 AI 芯片厂商需求增长下 T-Glass 供应持续紧张。

    推荐理由:Nittobo 追加 200 亿日元扩产 T-Glass,读者可据此跟踪低 CTE 玻纤布供给紧张对先进封装材料端的约束。

11月8日周日
11月6日周五
11月5日周四
11月4日周三
11月3日周二
  1. DIGITIMES58

    AI服务器需求叠加树脂断供,印度PCB短缺或延续至2027年

    印度电子厂商预计未来数月PCB短缺将进一步加剧,这属于全球性供给紧张的一部分。AI服务器占用高端覆铜板、玻纤布与ABF产能,西亚冲突切断一种关键树脂供应,新增产能设备交付最长需30个月;台湾供应链估计最紧张的材料要到2027年下半年至2028年才逐步缓解。