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今天11月12日周四1 条
11月11日周三
  1. Semiconductor Engineering49

    混合键合间距缩小至5μm以下,检测与量测面临极限挑战

    混合键合间距正从当前量产的4至9μm向5μm以下收缩,50nm颗粒和表面污染即可导致键合失效。CMP需将铜凹陷控制在几纳米并保持0.5nm RMS粗糙度,预键合检测须区分致命缺陷与无害形貌变化。键合后的埋藏缺陷检测仍是最大难题,红外、X射线和超声成像在分辨率、灵敏度与吞吐上各有局限。

  2. Semiconductor Engineering42

    AI 迭代提速,芯片测试难以跟上节奏

    AI 模型与工作负载的迭代速度已超过芯片设计、制造和测试周期,迫使芯片厂商重新思考测试策略。多 die 封装和更多测试插入点产生海量数据,且分散在不同公司和工厂之间难以共享;硅光目前已有 5 个测试插入点,面板级封装还将带来全新设备与工艺。客户还要求延长昂贵的 AI 硬件寿命,使老化与可靠性监控变得更复杂。

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