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11月11日周三
  1. 中微公司 · 新闻发布64

    中微公司发布 Primo Matrix 双反应台等离子体晶圆切割设备并交付首台

    中微公司发布 Primo Matrix 双反应台等离子体晶圆切割设备,首台已付运国内一家集成电路封装客户。该设备采用 Primo TSV 的等离子体深硅刻蚀技术,兼容带框架 200mm、300mm 晶圆,可切割最小 5μm 切割道、支持 25–700μm 晶圆厚度,系统最多搭载 6 个刻蚀反应台,并支持带凸点晶圆正面切割、激光开槽后切割及背面刻蚀等工艺。

    推荐理由:首台等离子体晶圆切割设备付运封装客户,国产设备进入先进封装切割环节的落地节点。

11月8日周日
  1. DIGITIMES72

    长江存储第四座NAND工厂目标国产设备占比达70%

    长江存储计划其第四座NAND闪存工厂最多70%的制造设备从国内供应商采购,明显高于现有产线的国产设备占比。该公司正借此扩产面向AI与数据中心的先进存储产品。

    推荐理由:长江存储新厂设备国产化目标升至70%,可跟踪国产设备在先进存储产线的导入节奏。

  2. Electronics Weekly28

    Emerson 推出支持 AI 加速自动化测试的 NI PXIe 仪器

    Emerson 发布 NI PXIe-4086 数字万用表及 PXIe-5160、PXIe-5162 示波器新版本,均属 NI PXI 平台,可搭配近期推出的 NI Nigel AI 方案使用。PXIe-5160 提供 2 或 4 通道、最高 2.5 GS/s 采样率、500 MHz 带宽,英国起售价 £14,700。产品面向半导体、交通与航空航天等高通道混合测量测试。

11月6日周五
11月5日周四
  1. 华海清科 · 新闻中心47

    华海清科面向Micro LED的磨-划-洗集成系统装备首套出机

    华海清科11月4日面向Micro LED领域推出的磨-划-洗成套方案首套集成系统装备顺利出机,这是公司首次实现集成系统装备出机。该方案由Versatile-GM300HC减薄装备、Versatile-DT200边缘修整装备和HPC-F3400单片清洗装备构成,兼容8/12英寸产品。

11月4日周三
  1. 华海清科 · 新闻中心58

    华海清科竞得浦东金桥4.6万平方米用地,投约17亿元建上海高端装备基地

    华海清科全资子公司华海清科(上海)半导体有限公司通过公开挂牌竞得浦东新区金桥“装备小镇”一宗国有建设用地使用权,出让面积约4.6万平方米,上海集成电路高端装备研发制造基地项目用地正式落定。

    推荐理由:原文给出上海基地约17亿元投资与4.6万平方米用地落定,可跟踪离子注入、CMP、减薄装备产能扩充节奏。

11月2日周一
10月31日周六
10月30日周五
  1. DIGITIMES58

    Intel因服务器需求超供而增加设备订单,产能释放分阶段推进

    Intel在10月29日财报电话会上表示,服务器需求超过供应,公司正扩大产能并增加设备订单,带动设备与材料供应商参与扩产。管理层指出当前有三重约束:晶圆生产、封装基板,以及以色列工厂受扰造成的产出损失,解决这些问题并让新增产能上线都需要时间,相关收益将分阶段体现。

10月29日周四
  1. 北方华创 · 企业新闻58

    北方华创发布首台12英寸微波ECR等离子体刻蚀设备Acme Helix430

    北方华创首台面向先进工艺节点的12英寸微波ECR等离子体刻蚀设备Acme Helix430正式问世,与公司现有ICP和CCP刻蚀设备形成技术路线互补。该设备采用自研微波ECR等离子体技术,可同步获得高密度等离子体与超低离子轰击能量,适配浅沟槽隔离、栅极刻蚀等核心工艺,并引入原子层刻蚀(ALE)模式。

    推荐理由:原文给出北方华创首台12英寸微波ECR刻蚀设备的技术路线与工艺验证,读者可据此跟踪国产刻蚀在GAA节点的路线补齐。

10月27日周二