NVIDIA 详解 AI 定义晶圆厂：仿真提速最高 35 倍，AI 智能体接管工程流程
NVIDIA 联合 COMSOL、Applied Materials、Siemens、Lam Research、Advantest 等厂商，用加速计算与物理 AI 构建"AI 定义晶圆厂"。
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Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分5858 应用材料追加投资先进封装设备商Besi，持股比例升至20%
应用材料追加对先进封装设备制造商Besi的投资，持股比例升至20%。该消息由凤凰网科技转载，原文未披露追加投资金额与具体交易时间。
DIGITIMESAI 评分6060 AMAT 拟将 Besi 持股从 9% 提升至约 20%，混合键合设备订单加速
Applied Materials 计划将荷兰半导体设备商 BE Semiconductor Industries（Besi）的持股从 9% 提升至约 20%。此举发生在混合键合设备需求加速之际，AMAT 借此加深在先进芯片封装环节的参与。
Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分5555 应用材料追加投资先进封装设备商Besi，持股比例升至20%
应用材料追加对先进封装设备制造商Besi的投资，持股比例升至20%。该消息由新浪财经报道，原文未披露交易金额与具体持股变动细节。
Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分4242 应用材料追加对先进封装设备制造商Besi投资，持股比例升至20%
应用材料追加对先进封装设备制造商Besi的投资，持股比例升至20%。
Semiconductor EngineeringAI 评分2222 SPIE 光掩模与 EUV 光刻会议专家小组：EPE 已成系统级问题，计算光刻需重构
在 SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 会议上，来自 IBM、Carl Zeiss SMT、Micron、ASML、Tekscend 与 Applied Materials 的专家小组讨论指出，EPE 已不再是单一光刻指标，而是涵盖掩模、扫描仪、光刻胶、刻蚀、量测与 OPC 的系统级问题。
Semiconductor EngineeringAI 评分5858 先进封装从晶圆转向面板时哪些工艺环节会失效
Semiconductor Engineering 汇总多位业界人士观点指出，先进封装从 300mm 晶圆转向 600mm 面板并非简单放大，涂布、光刻、翘曲控制与检测等围绕圆形工件建立的工艺假设都需要重新审视。
Tom's Hardware · SemiconductorsAI 评分5858 Musk 称 ASML 等关键设备供应商加速向 Terafab 交货，目标 2028 年三四季度量产
Musk 在 SpaceX 2026 年三季度财报直播中称，ASML 及其他关键半导体设备供应商已加速向 Tesla 与 SpaceX 合作的 Terafab 项目交货，该项目位于得州 Gibbons Creek 的主厂目标在 2028 年第三或第四季度实现芯片量产，他同时强调这一时间表极具挑战、误差很大。