国产光刻机
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光刻机是整条半导体链“卡点中的卡点”：国产化率约1%（Bernstein）/2.5%（东兴）[L4]。光源、物镜、双工件台三大子系统国内各只有一家能做，而且大多未上市，A股能买到的主要是配套光学、镀膜耗材和结构件。圈内判断：国产DUV技术已攻克，真正的瓶颈是整机集成良率，还需3–5年迭代。
卡点流程图
子系统材料/结构整机
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核心卡点
光源
🔴 卡点高重频准分子激光器全球只有两家，Cymer（ASML旗下）占80%以上
物镜/照明光学
🔴 卡点波像差和NA互相制约；Zeiss是ASML关键光学件独供商
双工件台
🔴 卡点要求MA<1nm、MSD约7nm的纳米级运动控制，是ASML的“杀手锏”
整机集成
🔴 卡点80%国产化 · 上海微电子占国内光刻机出货80%以上（未上市）圈：技术已攻克，瓶颈是集成良率
核心公司
- 光源福晶科技002222波长光电301421
- 物镜/照明光学茂莱光学688502奥普光电002338
- 浸没系统捷众科技873690
- 镀膜/疏水膜耗材菲沃泰688371汇成真空301392
- 结构件/运动平台美利信301307富创精密688409新莱应材300260
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