中微公司发布 Primo Matrix 双反应台等离子体晶圆切割设备，首台已付运国内一家集成电路封装客户。该设备采用 Primo TSV 的等离子体深硅刻蚀技术，兼容带框架 200mm、300mm 晶圆，可切割最小 5μm 切割道、支持 25–700μm 晶圆厚度，系统最多搭载 6 个刻蚀反应台，并支持带凸点晶圆正面切割、激光开槽后切割及背面刻蚀等工艺。
推荐理由：首台等离子体晶圆切割设备付运封装客户，国产设备进入先进封装切割环节的落地节点。
西门子 Tessent Streaming Scan Network 与 Teradyne UltraFLEXplus 组成联合方案，通过设备自带的 PCIe 接口经 UltraPort 服务器传输扫描测试数据，并在标准 IG-XL 编程模型内完成测试设置、执行与调试。
中微首台等离子切割机已交付，最小支持5微米切割道，指向先进封装应用。原文仅给出交付与切割道规格，未披露客户、订单数量及量产时间表。
国产等离子晶圆切割设备完成交付，为先进封装关键环节提供自主方案，设备切割道最小可达5微米。该设备由此进入封装关键环节。
华海清科11月4日面向Micro LED领域推出的磨-划-洗成套方案首套集成系统装备顺利出机，这是公司首次实现集成系统装备出机。该方案由Versatile-GM300HC减薄装备、Versatile-DT200边缘修整装备和HPC-F3400单片清洗装备构成，兼容8/12英寸产品。
ACM Shanghai 交付首台 310×310mm 面板级电镀设备，订单积压增长 88%。随着 AI 芯片封装尺寸持续增大，面板级封装设备正逐步推进客户验证与量产。
越好电子宣布其TGV先进封装金属化溅镀设备已在大尺寸玻璃基板、最高15:1深宽比通孔上完成全工艺验证。该验证覆盖玻璃基板TGV金属化环节，具体客户与量产时间未在原文披露。
华海清科在2026湾芯展发布中束流离子注入机 iHQ-900E 和面向先进封装的国产面板级 CMP 量产方案 Master-P510APEX。iHQ-900E 围绕剂量均匀性、角度及 WPH 等指标展示相较国外竞品的性能优势。同期 Universal-200 Smart 通过深圳平湖实验室国产化验收，公司获授湾芯展卓越企业荣誉。
华海清科在第二十六届国芯展上集中展示CMP、离子注入、减薄、划切、湿法等高端半导体装备及服务，离子注入系列装备成为现场交流热点。公司面向板级先进封装推出Panel CMP、Panel减薄等系列装备与成套解决方案，副总裁陈炯在同期论坛重点解读了离子注入系列装备的产品布局。
中微公司在2026湾芯展上重点推介最新发布的两款设备，Primo XD-RIE™极高深宽比刻蚀机与Prefima Unicore™ AM 12英寸ALD钼设备。
推荐理由：中微在展会上推介两款新设备，其中ALD钼设备切入存储厂商钼基字线切换窗口，可跟踪其客户导入节奏。
华海清科自主研发的全自动板级CMP量产装备Master-P510APEX顺利出机，发往先进封装产线投入量产应用，为国内首台进入量产线的全自动板级CMP装备。该装备针对大尺寸板级封装设计，具备全板面均匀性与平坦化控制能力，支持低缺陷抛光，并通过智能终点检测与自动化控制实现多种工艺模式切换。华海清科称将围绕面板级工艺需求逐步推出覆盖多工艺环节的成套解决方案。
推荐理由：国产板级CMP装备首次进入量产线，可跟踪板级封装工艺环节的国产设备配套进度。
华海清科新一代双工作台高效划切装备Versatile-DT300D首台正式出机，发往国内先进存储龙头企业。该装备面向存储芯片、先进封装、图像传感器场景定制开发，搭载双工作台全自动切割模块与高洁净清洗系统，并集成智能量测模块拓展切割量测与缺陷检测范围。华海清科现有产品矩阵覆盖CMP、离子注入、减薄、划切、边缘抛光、湿法、晶圆再生及耗材维保服务。
推荐理由：国产划切装备首台进入国内先进存储龙头产线，可跟踪其在先进封装与存储场景的验证进展。
北方华创首台600mm×600mm面板级封装去胶设备（Descum）成功出厂，用于面板级封装去胶工艺。该设备在大翘曲度基板低温去胶、大面积刻蚀均匀性等核心技术上取得突破，刻蚀均匀性与基座表面温度均匀性满足业内主流需求。北方华创称该定制化方案为客户面板级封装研发与后续规模化量产提供技术基础。
推荐理由：原文给出首台600mm×600mm面板级封装Descum设备出厂节点，读者可据此跟踪国产设备在面板级封装环节的导入进展。