底部抗反射涂层（BARC）市场展望2035：先进节点光刻支撑增长
IndexBox 发布底部抗反射涂层（BARC）市场展望至2035年，先进节点光刻需求被列为支撑市场增长的主要因素。原文未披露具体市场规模、增速数字或主要厂商信息。
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Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分2929 Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分3232 光华科技拟2.25亿元增资及受让凯诺中星21.46%股权，推进半导体光刻胶产业协同
光华科技拟以2.25亿元增资及受让凯诺中星21.46%股权，围绕半导体光刻胶等赛道推进产业协同。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分3636 光华科技斥资2.25亿元布局光刻胶赛道，标的投前估值9.25亿元
光华科技宣布斥资2.25亿元布局光刻胶赛道，交易标的投前估值为9.25亿元。
Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分4242 彤程新材：当前光刻胶产能利用率超50%
彤程新材当前光刻胶产能利用率超过50%。该数据由公司在回应中披露，未提及具体产线或产品型号。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分4242 彤程新材：光刻胶产能利用率超50%，电子材料板块多品类贡献收入
彤程新材当前光刻胶产能利用率超过50%，电子材料板块多个品类已贡献收入。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分3030 瑞联新材（688550.SH）：三季度半导体光刻胶单体与 PSPI 单体材料营收同比高速增长
瑞联新材（688550.SH）第三季度半导体光刻胶单体材料和 PSPI 单体材料营收同比依然呈现高速增长态势。公司未在文中披露具体营收数字与增速。
Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分3636 日本光刻胶10月提价，国产替代进入加速兑现期
日本光刻胶于10月提价，多重催化下国产替代进入加速兑现期。原文未披露具体厂商、涨幅与产品型号等信息。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分5858 消息称三井化学计划以超1.3万亿日元收购光刻胶大厂JSR
凤凰网科技援引消息称，三井化学计划以超过1.3万亿日元收购光刻胶大厂JSR。原文未披露交易结构、时间表及双方回应。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分6060 三井化学计划收购光刻胶全球第二大企业JSR
日经中文网报道，三井化学计划收购光刻胶全球第二大企业JSR。原文未披露交易金额、时间表或审批进展。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分4242 东进世美肯：正在供应EUV光刻胶，也在开发先进封装材料
东进世美肯表示正在供应EUV光刻胶，同时也在开发先进封装材料。
DIGITIMESAI 评分6060 富士胶片扩大韩国 EUV 光刻胶与 CMP 抛光液产能
富士胶片电子材料扩大韩国半导体材料布局，在平泽增加 EUV 光刻胶产能，并在天安扩大 CMP 抛光液生产。公司称此举将加深对三星电子等客户的本地支持，背景是 AI 与先进制程需求增长。
Semiconductor EngineeringAI 评分3838 KU Leuven 等团队发现干法沉积卤化 a-ZIF 光刻胶在 EUV 与电子束下呈现不同调性转换
KU Leuven、群山国立大学、VUB 与 imec 等团队发表研究，报道一种完全干法沉积的卤化非晶沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）金属有机光刻胶，在电子束与 EUV 曝光下表现出明显的辐照源依赖调性转换。相关论文发表于 ACS Applied Materials & Interfaces。
Google新闻 · 光刻胶/设备材料AI 评分1818 南大光电：未有关于EUV光刻胶的研发计划
南大光电明确表示，公司目前没有关于EUV光刻胶的研发计划。该回应针对市场对其在EUV光刻胶领域布局的关注，公司未披露更多相关技术路线或时间表。