Semiconductor Engineering· Technical Paper Link·· 17 天前AI 评分38
KU Leuven 等团队发现干法沉积卤化 a-ZIF 光刻胶在 EUV 与电子束下呈现不同调性转换
Dry-Deposited Resist Shows Different Tone Behavior Under EUV And E-Beam Exposure (KU Leuven, Kunsan, VUB, Imec)
AI 导读
KU Leuven、群山国立大学、VUB 与 imec 等团队发表研究，报道一种完全干法沉积的卤化非晶沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）金属有机光刻胶，在电子束与 EUV 曝光下表现出明显的辐照源依赖调性转换。相关论文发表于 ACS Applied Materials & Interfaces。
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