GlobalFoundries 计划明年演示 7nm FDSOI 工艺 FDX Fusion
GlobalFoundries 表示计划于 2027 年初演示 7nm FDSOI 工艺 FDX Fusion,其逻辑密度达 14M–18M gates/mm²,晶体管密度超过第一代 22FDX 的两倍。
GlobalFoundries 表示计划于 2027 年初演示 7nm FDSOI 工艺 FDX Fusion,其逻辑密度达 14M–18M gates/mm²,晶体管密度超过第一代 22FDX 的两倍。
GlobalFoundries FD-SOI 业务部门副总裁 Sudipto Bose 在采访中详解 FDX Fusion 工艺,称其基于平面晶体管和 DUV 光刻实现 8nm 级逻辑密度(1400 万门/平方毫米)与 7nm 级功耗性能,无需 EUV。
日本光刻胶于10月提价,多重催化下国产替代进入加速兑现期。原文未披露具体厂商、涨幅与产品型号等信息。
长鑫存储(CXMT)计划开始生产HBM3E,目前良率仅达到20%至30%。此举反映中国市场在关键设备进口受限下仍寻求扩大本土存储产能、应对内存短缺。
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新浪财经文章称内存价格还将继续上涨,三星与SK海力士等存储厂商并不担忧,国产HBM明年市场份额不到2%。