江苏希磁 HISIGK 备好 14 台自动光刻设备，覆盖 300mm/200mm/150mm 平台
江苏希磁半导体（HISIGK）已备好 14 台自动化光刻系统待交付，覆盖 300mm、200mm 和 150mm 晶圆平台。其特色半导体设备业务面向 MEMS、AR 光学和 LED 芯片等市场。
推荐理由：国产光刻设备从 MEMS、AR 光学等特色工艺切入，14 台多尺寸平台设备的交付进度可作为观察切口。
#涂胶显影
DIGITIMES精选AI 评分7272
Tokyo Electron · Product News精选AI 评分5858 TEL 发布 CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE 300mm 涂胶显影机
TEL 发布 CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE 300mm 涂胶显影机，面向 EUV 超精细图形化制程。该设备采用新的缺陷控制技术，可将光刻胶涂布缺陷及相关成本较前代降低 50% 以上，涂布与显影速度为业界最快，洁净室占地利用与产能、环保表现较前代提升 25% 以上。
推荐理由：TEL 发布新一代涂胶显影机，缺陷控制与产能指标较前代提升，可跟踪其在高数值孔径 EUV 产线的导入节奏。
Tokyo Electron · Product News精选AI 评分5858 Tokyo Electron 发布 300mm 晶圆批量热处理系统 EVAROS
Tokyo Electron 发布面向 300mm 晶圆的批量热处理系统 EVAROS，单批最多可处理 200 片晶圆，超过此前 300mm 机型。该系统采用新开发的多区控制加热器，并配备大直径排气管道以提升 conductance，面向 ALD 等先进器件沉积工艺；每片晶圆 CO2 排放较 TELINDY PLUS 减少约 25%，同时降低电力、冷却水和气体消耗。
推荐理由：TEL 发布新一代批量热处理系统，单批 200 片与每片 CO2 减排约 25% 是核心规格变化。