三星和 SK 海力士抢购 EUV 光刻机，ASML 预计未来两年供应短缺
三星和 SK 海力士正在抢购 EUV 光刻机，ASML 预计未来两年都将出现供应短缺。报道未披露具体采购数量、机型与交期数字。
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Semiconductor EngineeringAI 评分3838 KU Leuven 等团队发现干法沉积卤化 a-ZIF 光刻胶在 EUV 与电子束下呈现不同调性转换
KU Leuven、群山国立大学、VUB 与 imec 等团队发表研究，报道一种完全干法沉积的卤化非晶沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）金属有机光刻胶，在电子束与 EUV 曝光下表现出明显的辐照源依赖调性转换。相关论文发表于 ACS Applied Materials & Interfaces。
Semiconductor EngineeringAI 评分3434 中科院等团队研究Pt-W合金作为更薄High-NA EUV掩模吸收层
中国科学院、吉林大学等团队发表论文，评估Pt-W合金作为下一代低n EUV掩模吸收层，研究其薄膜特性与成像性能。该合金有望用于更薄的High-NA EUV掩模吸收层。