Semiconductor Engineering· Jan Willis·· 17 天前AI 评分58
eBeam Initiative调查显示66%专家预计十年内采用6x12英寸大尺寸掩模
Large-Format Masks Move From Aspiration To Industry Roadmap
AI 导读
eBeam Initiative第15届Luminaries调查显示，66%的受访专家预计行业将在未来十年内采用约6x12英寸的大尺寸掩模，该调查在TSMC与ASML宣布2031年12英寸掩模试产线计划之前完成。
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