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Google新闻 · HBM/光刻/封装·· 17 天前AI 评分18

英特尔高管:采用High NA EUV光刻机是正确选择,追赶台积电是规模问题

英特尔高管:采用High NA EUV光刻机是正确选择 追赶台积电是规模问题 - 新浪财经

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AI 导读

英特尔高管表示,采用High NA EUV光刻机是正确选择,并称追赶台积电是规模问题。

来源:Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com