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第九届进博会:中国新一代光刻机模型亮相,性能直追国际标杆

【第九届进博会】中国新一代光刻机模型亮相 性能直追国际标杆 - 中新经纬

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AI 导读

第九届进博会上,中国新一代光刻机模型亮相,报道称其性能直追国际标杆。原文未披露该光刻机的型号、制程节点、产能或厂商信息。

来源:Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com