Google新闻 · HBM/光刻/封装·· 10 天前AI 评分22
俄光刻机连跳两级：130nm 已验收，2036 年目标 10nm
俄光刻机连跳两级，130 纳米已验收，2036 年要啃 10 纳米硬骨头？ - 搜狐网
AI 导读
俄罗斯光刻机跳过中间节点直接推进两级，130nm 设备已通过验收。按其规划，2036 年将攻关 10nm 制程。
来源：Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com
俄光刻机连跳两级：130nm 已验收，2036 年目标 10nm