俄130纳米光刻机通过验收，规划2036年攻关10nm
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俄130纳米光刻机通过验收，规划2036年攻关10nm
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AI 综述
俄罗斯一台130纳米光刻机已通过验收。据其规划，俄方将跳过中间节点直接推进两级，目标在2036年攻关10纳米制程。 目前公开的信息只确认了130纳米设备的验收结果和2036年10纳米的时间目标，未披露该设备的具体性能、量产安排或10纳米目标的实现路径。
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最新进展11月2日 07:35
俄光刻机连跳两级：130nm 已验收，2036 年目标 10nm报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
11月2日
- Google新闻 · HBM/光刻/封装俄光刻机连跳两级：130nm 已验收，2036 年目标 10nm
俄罗斯光刻机跳过中间节点直接推进两级，130nm 设备已通过验收。按其规划，2036 年将攻关 10nm 制程。