消息称三星电子、SK海力士均将向ASML EUV光刻机投资超10万亿韩元
消息称三星电子与SK海力士均将向ASML的EUV光刻机投资超10万亿韩元。两家存储芯片厂商的投资均指向EUV设备采购，金额规模各自超过10万亿韩元。此事目前为消息层面报道。
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Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分4747 Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分5252 消息称三星电子、SK海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元
消息称三星电子与 SK 海力士均计划向 ASML 的 EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元。两家存储厂商的这项投资规模均超过 10 万亿韩元，指向 EUV 光刻设备的采购。
Google新闻 · HBM/光刻/封装AI 评分5858 存储双雄争夺EUV光刻机以支撑先进DRAM扩产，单家投资上限接近千亿
财联社报道，存储双雄正争夺EUV光刻机，以支撑先进DRAM扩产，单家投资上限接近千亿元。报道未披露两家公司的具体名称、设备采购数量与时间表。
DIGITIMES精选AI 评分6767 ASML 预警 2027 至 2028 年 EUV 设备产能不足，三星与 SK hynix 争抢设备
ASML 预警其规划产能将无法满足 2027 年和 2028 年的客户需求，三星电子与 SK hynix 正竞相锁定 EUV 光刻设备。这一供应缺口引发对先进 DRAM 扩产所需关键设备可得性的担忧。
推荐理由：ASML 预警 2027 至 2028 年 EUV 产能不足，读者可据此跟踪先进 DRAM 扩产的设备交期约束。
Tom's Hardware · SemiconductorsAI 评分4040 没有 EUV，中国如何用 DUV 多重曝光造先进芯片，代价是什么
出口管制使 ASML 的 EUV 无法进入中国，中国芯片厂转而用 DUV 多重曝光生产先进芯片。Fractilia 联合创始人 Chris Mack 称，193 浸没式机台三次曝光成本约与一次 EUV 曝光持平，到四层掩膜时 EUV 更具成本效益且缺陷更少。摩根士丹利估计长鑫存储每片晶圆产出的 bit 数仅约为西方厂商的三分之一。