中微公司亮相2026工博会国芯展，Primo UD-RIE刻蚀设备获CIIF大奖

中微公司携平台化产品矩阵亮相首届国芯展，其自主研发的Primo UD-RIE电容耦合等离子体刻蚀设备同时获得2026工博会CIIF大奖与"国芯展"创新成果奖。该设备为12英寸高端CCP刻蚀机，配备六个单反应台反应腔，可满足极高深宽比刻蚀要求。截至2026年6月底，中微公司累计超过8800个反应台在国内外220余条生产线实现量产。