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佳能推出高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm
不玩EUV了 佳能推出高性能KrF光刻机：套刻精度可达4nm - 驱动之家
AI 导读
佳能推出一款高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm。该设备不采用EUV方案。
来源：Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com
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佳能推出一款高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm。该设备不采用EUV方案。
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