Google新闻 · HBM/光刻/封装·2026-10-24 20:01· 18 天前AI 评分18

DUV光刻机立功！中国芯片的EUV替代方案：三次曝光追平一次EUV

DUV光刻机立功！中国芯片的EUV替代方案：三次曝光追平一次EUV - 新浪财经

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AI 导读

新浪财经报道，中国芯片的EUV替代方案是用DUV光刻机进行三次曝光，以追平一次EUV的效果。原文未披露具体厂商、制程节点与良率数据。

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