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佳能新款KrF光刻机即将推出，套刻精度达4.0nm
4.0nm套刻精度，佳能新款KrF光刻机即将推出 - Sohu
AI 导读
佳能即将推出一款新的KrF光刻机，套刻精度为4.0nm。原文未披露该机型的具体型号、发布时间及售价等信息。
来源：Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com
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佳能即将推出一款新的KrF光刻机，套刻精度为4.0nm。原文未披露该机型的具体型号、发布时间及售价等信息。
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