Google新闻 · HBM/光刻/封装· 02:32AI 评分3636佳能推出高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm佳能推出一款高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm。该设备不采用EUV方案。相关产业 · 国产光刻机光刻#光刻进展#认证/导入