荷兰专家:中国囤积大量ASML DUV光刻机,意在与美国打持久战
荷兰专家称,中国此前大量囤积ASML DUV光刻机,目的是在与美国的科技博弈中打持久战。该观点认为这批设备储备为中国争取了时间窗口。
荷兰专家称,中国此前大量囤积ASML DUV光刻机,目的是在与美国的科技博弈中打持久战。该观点认为这批设备储备为中国争取了时间窗口。
出口管制使 ASML 的 EUV 无法进入中国,中国芯片厂转而用 DUV 多重曝光生产先进芯片。Fractilia 联合创始人 Chris Mack 称,193 浸没式机台三次曝光成本约与一次 EUV 曝光持平,到四层掩膜时 EUV 更具成本效益且缺陷更少。摩根士丹利估计长鑫存储每片晶圆产出的 bit 数仅约为西方厂商的三分之一。
Musk 在 SpaceX 2026 年三季度财报直播中称,ASML 及其他关键半导体设备供应商已加速向 Tesla 与 SpaceX 合作的 Terafab 项目交货,该项目位于得州 Gibbons Creek 的主厂目标在 2028 年第三或第四季度实现芯片量产,他同时强调这一时间表极具挑战、误差很大。