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佳能推出高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm
套刻精度可达4nm！佳能推出高性能KrF光刻机 - Sohu
AI 导读
佳能推出高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm。原文未披露该机型的型号、产能与上市时间等具体信息。
来源：Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com
佳能推出高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm
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佳能推出高性能KrF光刻机，套刻精度可达4nm。原文未披露该机型的型号、产能与上市时间等具体信息。
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