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二维材料图案化采用间隙填充式模板光刻

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AI 综述

针对二维材料高精度、高良率图案化需求,相关研究采用间隙填充式模板光刻技术完成图形化。该路线将模板与间隙填充相结合,目标是兼顾精度与良率两项指标。报道未披露研究机构、具体材料体系、所得精度与良率数值及验证范围。

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11月13日
  1. Google新闻 · HBM/光刻/封装
    二维材料高精度高良率图案化:间隙填充式模板光刻技术

    针对二维材料高精度、高良率图案化需求,相关研究采用间隙填充式模板光刻技术实现图案化。该技术路线以模板与间隙填充相结合的方式完成二维材料图形化,兼顾精度与良率两项指标。

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