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DUV光刻机立功！中国芯片的EUV替代方案：三次曝光追平一次EUV
DUV光刻机立功！中国芯片的EUV替代方案：三次曝光追平一次EUV - 新浪财经
AI 导读
新浪财经报道，中国芯片的EUV替代方案是用DUV光刻机进行三次曝光，以追平一次EUV的效果。原文未披露具体厂商、制程节点或良率数据。
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DUV光刻机立功！中国芯片的EUV替代方案：三次曝光追平一次EUV