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Google新闻 · HBM/光刻/封装·· 18 天前AI 评分18

DUV光刻机立功!中国芯片的EUV替代方案:三次曝光追平一次EUV

DUV光刻机立功!中国芯片的EUV替代方案:三次曝光追平一次EUV - 驱动之家

AI 导读

驱动之家报道,中国芯片的EUV替代方案是用DUV光刻机进行三次曝光,以追平一次EUV的效果。

来源:Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com