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Semiconductor Engineering· Technical Paper Link·· 9 天前AI 评分25

MCL、PVA TePla 与 ASE 用 AI 图像增强提升倒装芯片互连缺陷检测

AI Image Enhancement Improves Detection Of Flip-Chip Interconnect Defects (MCL, PVA TePla, ASE)

AI 导读

MCL、PVA TePla 与 ASE 联合发表研究,提出基于 AI 的图像增强流程,专门改善扫描声学显微镜(SAM)图像,以提升倒装芯片 BEOL 极低 K 层裂纹等"white bumps"缺陷的可检测性。研究针对先进封装中器件微型化与复杂度上升导致传统失效分析(FA)方法检测困难的问题。论文发表于 J Fail. Anal. and Preven.(2026),开放获取。

来源:Semiconductor Engineering · semiengineering.com