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三星拟采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM芯片
三星拟采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM芯片 - 集微网
AI 导读
三星计划采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM芯片。该消息由集微网报道,涉及三星、台积电与英伟达三方在HBM供应上的工艺合作。
来源:Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com
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三星计划采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM芯片。该消息由集微网报道,涉及三星、台积电与英伟达三方在HBM供应上的工艺合作。
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