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DUV光刻机立功!中国芯片的EUV替代方案:三次曝光追平一次EUV
DUV光刻机立功!中国芯片的EUV替代方案:三次曝光追平一次EUV - 凤凰网
AI 导读
凤凰网报道,中国芯片的EUV替代方案是用DUV光刻机进行三次曝光,以追平一次EUV的效果。
来源:Google新闻 · HBM/光刻/封装 · news.google.com
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凤凰网报道,中国芯片的EUV替代方案是用DUV光刻机进行三次曝光,以追平一次EUV的效果。
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