AI 推动硅光量产,工艺控制成关键挑战
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AI 推动硅光量产,工艺控制成关键挑战
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AI 综述
AI 带动电互连逼近极限,硅光与 CPO 用光传输数据被视为可行路径,但报道指出,量产仍需在光学结构、材料与集成工艺上保持精确工艺控制。 报道称,硅光的良率与性能取决于关键尺寸及几何、薄膜、缺陷的严格管控;光纤 V 型槽、波导与包层、微透镜、激光器件、键合与 TSV 等环节对微小工艺波动高度敏感。
AI 根据报道生成 · 1 天前更新
最新进展11月10日 16:01
应对 AI 时代硅光工艺控制挑战报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
11月10日
- Semiconductor Engineering应对 AI 时代硅光工艺控制挑战
AI 推动电互连逼近极限,硅光与 CPO 用光传输数据成为可行路径,但量产需在光学结构、材料与集成工艺上保持精确工艺控制。硅光良率与性能取决于关键尺寸及几何、薄膜、缺陷的严格管控,光纤 V 型槽、波导与包层、微透镜、激光器件、键合与 TSV 等环节对微小工艺波动高度敏感。
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